Přeskočit na obsah
Library Home
Start Over
Research Databases
E-Journals
Rezervace kurzů
Library Home
Přihlásit
English
Deutsch
Español
Français
Italiano
日本語
Nederlands
Português
Português (Brasil)
中文(简体)
中文(繁體)
Türkçe
עברית
Gaeilge
Cymraeg
Ελληνικά
Català
Euskara
Русский
Čeština
Suomi
Svenska
polski
Dansk
slovenščina
اللغة العربية
বাংলা
Galego
Tiếng Việt
Hrvatski
हिंदी
Հայերէն
Українська
Jazyk
Library Catalog
Vše
Název
Autor
Téma
Signatura
ISBN/ISSN
Hledat
Pokročilé vyhledávání
|
Procházet
|
Tipy pro vyhledávání
Database Needs for Modeling an...
Vytvořit citaci
Zaslat SMS
Poslat e-mailem
Vytisknout
Exportovat záznam
Exportovat do RefWorks
Exportovat do EndNoteWeb
Exportovat do EndNote
Přidat do oblíbených
Trvalý odkaz
Database Needs for Modeling and Simulation of Plasma Processing.
Uloženo v:
Podrobná bibliografie
Hlavní autor:
Staff, National Research Council
Médium:
E-kniha
Jazyk:
English
Vydáno:
Washington :
National Academies Press,
1996.
Edice:
The compass series Database needs for modeling and simulation of plasma processing
Témata:
Semiconductors
>
Design and construction
>
Congresses.
Plasma engineering
>
Databases
>
Congresses.
Plasma engineering
>
Computer simulation
>
Congresses.
Plasma engineering
>
Computer simulation
Semiconductors
>
Design and construction
Conference papers and proceedings
On-line přístup:
Click for online access
Jednotky
Popis
Obsah
Podobné jednotky
UNIMARC/MARC
Přihlaste se
Internet
Click for online access
Online
Informace o exemplářích z: Online
Dostupné
Podobné jednotky
Plasma processing and processing science
Vydáno: (1995)
Computational aspects of VLSI design with an emphasis on semiconductor device simulation
Vydáno: (1990)
Particle beams & plasma interaction on materials and ion & plasma finishing 2004 : proceedings of PIM & ASIP 2004, 25-27 November 2004, Chiang Mai, Thailand
Vydáno: (2005)
Semiconductor advanced packaging
Autor: Lau, John H.
Vydáno: (2021)
Laser-Plasma Acceleration.
Autor: Ferroni, F.
Vydáno: (2012)